摘要：利用直流脈沖磁控濺射方法在玻璃襯底上制備太陽電池背接觸Mo薄膜。通過臺階儀、四探針電阻儀、X射線衍射儀、紫外-可見分光光度計等研究了Ar氣壓強對薄膜結構及光電性能的影響，結果表明，在低的Ar氣壓強下制備的Mo薄膜晶粒尺寸較大，薄膜結晶質量好，薄膜具有優良的光電性能，Ar氣壓強的增加將導致薄膜的晶粒尺寸減小，薄膜結晶質量差，結構疏松，從而降低薄膜的光電性能。Ar氣壓強為0．4Pa時制備薄膜的晶粒尺寸為21．02nm，電阻率最低，為14μΩ·cm，波長190nm～850nm范圍內的平均反射率可達到66．94％。